你的位置：首頁 > 產(chǎn)品展示 > 紋影儀 > 泰普勒紋影儀 >紋影儀
產(chǎn)品詳細(xì)頁
紋影儀
- 產(chǎn)品型號：WKWY-300
- 更新時(shí)間：2025-02-25
- 產(chǎn)品介紹：WKWY-300紋影儀是利用光在被測流場中的折射率梯度正比于流場的氣流密度的原理，將流場中密度梯度的變化轉(zhuǎn)變?yōu)橛涗浧矫嫔舷鄬鈴?qiáng)的變化，使可壓縮流場中的激波、壓縮波等密度變化劇烈可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動(dòng)的分布、傳播過程以及擾動(dòng)強(qiáng)度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項(xiàng)流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場密度變化科學(xué)研究。
- 在線留言
產(chǎn)品介紹
紋影儀可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動(dòng)的分布、傳播過程以及擾動(dòng)強(qiáng)度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項(xiàng)流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學(xué)反應(yīng)等學(xué)科的流場密度變化科學(xué)研究。泰普勒紋影儀是傳統(tǒng)、使用*的一種。
技術(shù)參數(shù)：
參數(shù) | 最大值 | 最小值 | 備注 |
視場 | Φ1000mm | Φ50mm | |
相對孔徑 | 1:10 | 1:20 | |
像鑒別率 | ≥40lp/mm | ||
照明設(shè)備 | 普通激光光源、LED光源、鎢燈光源 | ||
成像傳感器 | 數(shù)碼單反相機(jī)、高速相機(jī)、記錄干板 | ||
狹縫類型 | 單狹縫、多狹縫、小孔、色散棱鏡或光柵、彩色圓孔或者方孔狹縫 | ||
刀口類型 | 單刀口、雙刀口、四刀口、柵格刀口、圓形刀口等 | ||
結(jié)構(gòu)類型 | 積木式、筒式、平板式或者相關(guān)結(jié)構(gòu)類型 | ||
其中主反射鏡光學(xué)材料：K9光學(xué)玻璃，應(yīng)力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護(hù)膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護(hù)膜，反射系數(shù)≥90%，面型精度＜1/10波長。
該系統(tǒng)主要的光機(jī)部件主要可以分為：光源狹縫系統(tǒng)、主球面反射鏡裝調(diào)機(jī)構(gòu)、刀口成像系統(tǒng)三個(gè)部分。其中，光源狹縫系統(tǒng)和其中一塊主球面反射鏡組成準(zhǔn)直系統(tǒng)，刀口成像系統(tǒng)與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統(tǒng)，分別布局于兩個(gè)平臺上。
紋影法，又稱紋影技術(shù)，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統(tǒng)進(jìn)行流場顯示和測量的常用的光學(xué)方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應(yīng)用在光學(xué)玻璃折射率的檢測中。
1952年 ，Holde和Norht在紋影系統(tǒng)上使用白光的分光棱鏡 ，實(shí)現(xiàn)了彩色紋影成象，擴(kuò)大了紋影技術(shù)的應(yīng)用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應(yīng)后指出，紋影法實(shí)用于水洞 的流場顯示；1974年 ，Merzkirch對可壓縮流場中的紋影技術(shù)進(jìn)行了分類，把涉及到在紋影系統(tǒng)上進(jìn)行的干涉紋影法的研究 ，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ，均歸類于紋影技術(shù),并得到國內(nèi)同行的認(rèn)可。
- 上一篇：沒有了
- 下一篇：WKJWY-200聚焦紋影儀
